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    • 適用於高溫高壓條件下的幹法除塵設備

    • 本技術研發的目的在於提供一種適用於（yú）高溫高壓流化床粉體反反應的（de）幹法除塵器，以（yǐ）解決實（shí）際生產過程中遇到的除塵效果不好、操作（zuò）困難和（hé）除塵設備成本（běn）高的（de）技術問題，在三氯氫矽、多晶矽冷氫化以及有機矽合成製備的工藝中廣泛的應用。...

    • 反應尾氣中氯（lǜ）氣的無害化處理裝置（zhì）

    • 本技術研（yán）發要（yào）解（jiě）決（jué）的技術問題是克服現有的缺陷，提供（gòng）一種反（fǎn）應尾（wěi）氣中氯氣的無害化處理裝置，多次的淨化（huà）工序提高了尾氣中氯氣的吸收效（xiào）率，自動化程度較高（gāo），控製精準且（qiě）操作簡便，實（shí）現了反應尾氣中氯氣無害化處理過程的連續運行，實現（xiàn）對循（xún）環使用的氫氧化鈉溶液進行...

    • 鈣鈦礦用高純碘化鉛（qiān）類金屬鹵化物（wù）的（de）工業化生產

    • 本技（jì）術研發（fā）要解決的（de）技術問題是克服現有的缺陷，提供一種高純碘化鉛類金屬鹵化（huà）物生產裝置，實現（xiàn）鈣鈦礦用高純碘化鉛類金屬鹵化物的工業化製備，自動化程度較高，可為高純（chún）碘化鉛類金屬鹵化物（wù）節約人工成本，通過降溫重結晶的方法（fǎ）製備的產品純度較高，提高（gāo）高純碘化...

    • CMP研磨液專用氣相二氧化矽（guī）

    • CMP (ChemicalMechanicalPolishing)化學機械拋光是一個化學腐蝕和機械摩擦的結合。是（shì）目前較為普遍的半導（dǎo）體材料表麵平整技術，兼收了機械摩擦和化學腐（fǔ）蝕的（de）優點，從而避免了由單純機械（xiè）拋（pāo）光造（zào）成的表麵損傷和由單純化學拋光易造...

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